三星等公司上半年公布了全球首个2nm工艺芯片

2022年1月21日整理发布：IBM、三星等公司上半年公布了全球首个2nm工艺芯片，现在双方又在IEDM 2021会议上宣布了最新的合作成果，推出了VTFET(垂直传输场效应晶体管)技术，它与传统晶体管的电流水平方向传输不同，是垂直方向传输的，有望进军1nm及以下工艺。

根据IBM及三星的说法，VTFET技术有2个优点，一个是可以绕过现在技术的诸多性能限制，进一步扩展摩尔定律，另一个就是性能大幅提升，采用VTFET技术的芯片速度可提升两倍，或者降低85%的功耗。

这个技术要是量产了，那么芯片的能效比是大幅提升的，智能手机充电一次可使用两周，不过三星及IBM依然没有公布VTFET工艺的量产时间。

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